SEpA I

CD-SEM/EDS

适用于硅片量产的检测需求

SEpA I应用电子扫描技术针对硅片进行检测,实现高分辨率成像,高精度测量,为开发与量产流程中产能提高及制程控制提供解决方案。






高空间分辨率

SEpA I的电子光学镜筒经过精心优化设计,采用独有的像差消除技术,最高分辨率可以达到3 nm,可以获取清晰的二次电子成像。


高稳定度全自动检测

SEpA I采用高精度电子束控制技术与图像匹配技术,能够保证检测的高度可重复性,检测误差可以控制在1%以内。全自动检测基于可定制流程Recipe,根据需求进行灵活的流程设置。在对批量样品执行全自动检测时,SEpA I能够确保对于每个样品每次检测所获得数据的高可靠性。


低真空技术

通过搭配我们所独有的低真空功能模块,样品表面的荷电效应能够得到有效抑制,从而有助于获取清晰稳定的图像以实现精准的测量。


能量色散X射线光谱(EDS

SEpA I可以搭配EDS元素分析模块以实现快捷简易的缺陷分析(如硅片表面颗粒成分分析等),测量中采用低加速电压以保证高分辨率以及减小样品损伤。


可选功能

低真空荷电抑制技术

能量色散X射线光谱(EDS


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